步進曝光機是一種用于光刻（半導體和液晶制造工藝）的投射曝光設(shè)備。

隨著IC電路圖案的小型化，制作全尺寸光掩模圖案變得困難。這是指在對大于實際尺寸的掩模圖案進行縮小投影曝光時進行分步重復曝光的曝光設(shè)備

步進機是一種曝光設(shè)備，通過執(zhí)行步進和重復來曝光整個待曝光區(qū)域。

步進機的使用

步進機用于半導體和液晶的制造，特別是用于光刻過程中使用掩模的曝光處理。

步進法包括步進重復法和步進重復法，其中，由于一次可以轉(zhuǎn)移的面積較小，因此在步進時將晶圓順序曝光；以及步進重復法，其中稱為掃描儀的標線和存在一種使用步進機進行曝光的類型，該類型與步進機不同，并且可以將其視為掃描儀。